新思科技與臺積電合作進行5納米工藝技術(shù)認(rèn)證

2019-11-25 09:36 來源:美通社 作者:電源網(wǎng)

重點:

?工具通過了適合最新版本臺積電N5/N5P DRM和SPICE模型的認(rèn)證

?啟用新思科技功耗優(yōu)化,支持移動設(shè)備的超低功耗需求

?設(shè)計實現(xiàn)與signoff的相關(guān)一致性,通過了針對時序與參數(shù)提取的認(rèn)證,縮短上市時間

?合作還擴展至臺積電的N6工藝技術(shù)認(rèn)證,支持早期客戶參與

新思科技(Synopsys, Inc.,納斯達克股票代碼:SNPS)近日宣布其數(shù)字與定制設(shè)計平臺的數(shù)十項創(chuàng)新功能已獲得高性能計算(HPC)和移動芯片設(shè)計所必需的臺積電最先進5nm工藝技術(shù)認(rèn)證。除了高性能計算和移動芯片設(shè)計流程認(rèn)證外,新思科技設(shè)計工具還獲得臺積電業(yè)界領(lǐng)先的N5P和N6工藝技術(shù)認(rèn)證,為早期客戶設(shè)計工作提供支持。

臺積電設(shè)計基礎(chǔ)設(shè)施管理部門高級總監(jiān)Suk Lee表示:“我們與新思科技的密切合作確保了良好的設(shè)計流程,以幫助客戶應(yīng)對高性能計算和移動設(shè)計日益復(fù)雜的要求,并實現(xiàn)5納米工藝的流片創(chuàng)新。作為臺積電生態(tài)系統(tǒng)的合作伙伴,新思科技繼續(xù)擴大在臺積電最先進5納米工藝上實現(xiàn)高性能計算和移動設(shè)計解決方案的領(lǐng)先優(yōu)勢。

在高性能計算和移動設(shè)計流程中增強多種設(shè)計工具功能使設(shè)計人員能夠最大限度地利用臺積電5納米工藝在邏輯密度、性能和功耗方面超越上一代工藝節(jié)點的優(yōu)勢。從布局規(guī)劃和布局開始,Synopsys Design Compiler® Graphical綜合和IC Compiler? II布局與布線創(chuàng)建了新功能,以處理新的5納米間距、鄰接和邊界單元插入所適用的布局規(guī)則。對于移動設(shè)備的超低功耗需求,需要增加并使用越來越多的低漏電單元品種。因此,IC Compiler II也進行了功能升級,以應(yīng)對低漏電單元布局合規(guī)化所增加的復(fù)雜性。作為高性能計算和移動設(shè)計流程平臺認(rèn)證的一部分,新思科技StarRC?和PrimeTime® signoff解決方案”的結(jié)果與設(shè)計實現(xiàn)的結(jié)果進行了嚴(yán)格比較,以成功實現(xiàn)設(shè)計流程的相關(guān)一致性目標(biāo),從而提高設(shè)計收斂性,縮短整體上市時間。

新思科技芯片設(shè)計事業(yè)部營銷戰(zhàn)略副總裁Michael Sanie表示:“高性能計算和移動市場的快速創(chuàng)新,需要芯片團隊更好利用5納米加工技術(shù),支持客戶滿足他們的設(shè)計和上市時間要求。與臺積電的最新合作,可以更好地支持高性能計算和移動芯片設(shè)計的客戶。我們將持續(xù)努力,為優(yōu)化性能、功耗和邏輯密度提供一流的解決方案,并幫助客戶按時上市?!?

合作包含新思科技設(shè)計平臺的關(guān)鍵產(chǎn)品和功能包括:

?IC Compiler II布局布線:全自動、全色布線和提取支持,加上擴展的過孔支柱自動化。部署新一代布局和布局合規(guī)化技術(shù),包括先進引腳訪問模型,以支持強力地縮小單元占用空間,提高設(shè)計利用率。

?PrimeTime時序signoff:針對低電壓的先進變異建模,和增強的ECO技術(shù),支持新的物理設(shè)計規(guī)則。

?PrimePower功耗signoff:先進的物理感知功耗模型,以精確分析超高密度標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計的漏電效應(yīng)。

?StarRC提取signoff:處理5納米器件復(fù)雜性的高級建模,以及采用一種共用的技術(shù)文件,用于從綜合到布局布線到Signoff的寄生提取一致性。

?IC Validator物理signoff:原生開發(fā)的合格DRC、LVS和填充運行集。DRC運行集在臺積電發(fā)布設(shè)計規(guī)則的同時發(fā)布。

?HSPICE®、CustomSim?和FineSim®仿真解決方案:精確的FinFET器件建模,具有蒙特卡羅功能支持,以及模擬、邏輯、高頻和SRAM設(shè)計的電路仿真。

?CustomSim可靠性分析:符合5納米電遷移規(guī)則的考慮自熱效應(yīng)的動態(tài)晶體管級IR/EM分析。

?Custom Compiler?定制設(shè)計:支持新的5納米設(shè)計規(guī)則、著色流程、多晶軌道區(qū)和新的MEOL連接要求。

?NanoTime定制設(shè)計時序signoff:5納米器件的運行時間優(yōu)化,F(xiàn)inFET堆的POCV分析,以及針對定制邏輯和嵌入式SRAM的增強信號完整性分析。

?ESP-CV定制設(shè)計功能驗證:用于SRAM、宏和庫單元設(shè)計的晶體管級符號等價性檢查。

新思科技 臺積電 納米工藝

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